Iнформація: Ваш браузер не приймає cookies. Щоби покласти товар(и) в кошик і купити Вам необхідно ввімкнути cookies.
Версія для друку Версія для друку
Версія для друку

Основа для мила, луг feed

Умови зберігання мильної основи: мильну основу необхідно зберігати запаковану у прохолодному місці(+5оС - +20оС). Ні в якому разі під прямим сонячним промінням.



Впорядкувати по:

Водорозчинний папір - виробник США (формат А4-1 шт.)

12.00 грн.
Застосовується для ексклюзивних і оригінальних подарунків: наприклад, вплавляється в мило роздрукована на ній фотографія або гарна картинка. 1 листа вистачає мінімум на 10 шматочків мила (залежно від розміру роздруков 
Докладніше...

:




Калій гідроксид (KOH) від 250г.

30.00 грн.
Калій гідрооксид (KOH). У миловарінні використовується при виготовленні рідкого мила. 
Докладніше...

:




Каустична сода (NaOH) від 250 г.

18.00 грн.
Луг - необхідний інгредієнт для виготовлення твердого мила "з нуля". 
Докладніше...

:




Основа Liquid Crystal Concentrate ( LCC) від 100мл.

22.00 грн.
Liquid Crystal Concentrate - концентрат для виробництв косметичних миючих засобів, таких як шампуні, гелі для душу, піни для ванн і ін. 
Докладніше...

:




Основа для гоління Crystal SSB (100г.)

24.00 грн.

:




Основа для мила Crystal OPC (кремова) від 100г.

19.00 грн.
Це - м'яка кремоподібна основа для мила. Дає м'яку пишну піну і зволожує шкіру. Не застигає і не стає твердою з часом. 
Докладніше...

:




Основа для мила Liquid Crystal Suspending Body Wash

22.00 грн.
Використовується для приготування гелів для душу, желе, скрабів. 
Докладніше...

:




Основа для мила Organic Liquid Castile Soap Base

21.00 грн.
100% натуральна мильна основа, завдяки якій ви зможете створити абсолютно натуральне рідке мило. 
Докладніше...

:




Основа для шампуню Organic Shampoo Base (100 мл.)

26.00 грн.
Повністю готова основа для шампуню, необхідно тільки додати ефірні масла або органічні віддушки, повільно помішуючи в процесі введення 
Докладніше...

:








Показати №  
Результати 1 - 10 з 10
Востаннє змінено: понеділок, 23 липень 2018 00:22